Lembar Tantalum
-
Target Sputtering Tantalum – Cakram
Target sputtering Tantalum terutama diterapkan di industri semikonduktor dan industri pelapisan optik.Kami memproduksi berbagai spesifikasi target sputtering tantalum atas permintaan pelanggan dari industri semikonduktor dan industri optik melalui metode peleburan tungku vakum EB.Dengan mewaspadai proses penggulungan yang unik, melalui perawatan yang rumit dan suhu serta waktu anil yang akurat, kami menghasilkan dimensi yang berbeda dari target sputtering tantalum seperti target cakram, target persegi panjang, dan target putar.Selain itu, kami menjamin kemurnian tantalum antara 99,95% hingga 99,99% atau lebih tinggi;ukuran butir di bawah 100um, kerataan di bawah 0,2 mm dan Permukaan
-
Lembaran Tantalum (Ta)99.95%-99.99%
Lembar Tantalum (Ta) terbuat dari ingot tantalum. Kami adalah pemasok global Lembar Tantalum (Ta) dan kami dapat menyediakan produk tantalum yang disesuaikan.Lembaran Tantalum (Ta) diproduksi melalui Proses Cold-Working, melalui forging, rolling, swaging, dan drawing untuk mendapatkan ukuran yang diinginkan.
